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Fused 2025.4发布:NeXus支持烟火模拟,新增Jidou动画工具集
Fused 2025.4发布:NeXus支持烟火模拟,新增Jidou动画工具集

Insydium 推出 Fused 2025.4,为其 Cinema 4D 插件套件带来重大升级。核心插件 NeXus 新增 nxExplosiaFX 烟雾与火焰模拟系统,并集成 FLIP 与 APIC 液体求解器,显著扩展了大规模流体与爆炸特效的创作能力;其核心引擎经彻底重构,实现更快模拟速度与更低内存占用,并支持分层 GPU 衰减以灵活混合效果。同时,全新推出的 Jidou 工具集(含 jdDriver、jdAnimate、jdGeoRoll、jdFlowCam、jdGeoFlow 五个插件)为程序化动画提供强大支持,特别适用于技术动画与动态图形场景,可实现参数驱动与路径动画自动化。Fused 2025.4 兼容 Cinema 4D 20+,支持全平台 GPU 加速(含 Apple Silicon)。

Gaea 3.0 发布:矢量绘路、沙雪模拟、2.7D位移系统登场
Gaea 3.0 发布:矢量绘路、沙雪模拟、2.7D位移系统登场

QuadSpinner 正式公布 Gaea 3.0,这款广受 Respawn、Larian Studios 与 Wētā FX 等顶级工作室青睐的程序化地形工具将于 2026 年中发布。新版本聚焦艺术家控制力与物理真实性:引入矢量绘图工具,可精确绘制道路与河流(后者支持自动蜿蜒生成);新增沙丘求解器与高级积雪模拟;并推出神秘的“2.7D 位移系统”与超高精度 GI 烘焙,号称细节远超传统渲染器。工作流方面,渐进式预览、多遮罩叠加、全局命令栏大幅提升效率,并新增 Blender、Maya、3ds Max、Unity 官方插件。Professional/Enterprise 用户独享 USD 与 OCIO 支持,实现与现代 VFX/游戏管线无缝对接,并提供 SDK 与内置版本管理。值得注意的是,Gaea 3 向后兼容但不向前兼容,且 QuadSpinner 承诺将在获得社区对稳定性的认可后才正式发布,吸取了 Gaea 2.0 初版的教训。

Sebastian Deredas 专访:电影级材质与着色器创作全解析
Sebastian Deredas 专访:电影级材质与着色器创作全解析

本文深度专访了资深/主材质艺术家 Sebastian Deredas,他曾参与《巫师4》《爱、死亡与机器人》《星球大战:亡命之徒》等顶级项目。他指出:英雄资产只需精修特写区域,因时间与性能限制无法全局完美;材质真实感源于“有故事的细节”,而非堆砌grunge;电影级工作极少依赖程序化材质,而强调手绘与参考分析。在技术层面,他详述了预渲染与实时材质的核心差异——前者可使用50+ UDIM与8K贴图,后者则需严格优化;并强调着色器分层(灰尘、血迹独立控制)对光照响应的关键作用。作为主美,他依赖管线工具(ShotGrid、自动检查器、Lookdev脚本)保障跨部门协作。展望未来,他认为AI将成为辅助工具(如智能无缝贴图、提示生成污垢),但艺术意图不可替代。他给新人的核心建议是:观察世界、拆解材质、为每一笔赋予理由。此次访谈不仅揭示了影视级材质的技术标准,更传递了“细节即叙事”的深层创作哲学。

硬表面建模大师 Oleksandr Linovichenko 专访:AAA武器与载具创作秘籍
硬表面建模大师 Oleksandr Linovichenko 专访:AAA武器与载具创作秘籍

本文深度专访了首席3D艺术家 Oleksandr Linovichenko,他凭借在 Crytek、网易、Gunzilla 等公司参与《使命召唤》《战争前线》等AAA项目的丰富经验,系统阐述了硬表面建模的核心理念。他强调:90%的硬表面工作应使用CAD软件(如Plasticity、Fusion 360);所有贴图必须基于真实参考,杜绝凭空想象;细节真实到铆钉数量都可能被玩家验证。在创作流程上,他主张先构建强剪影与色彩构图,再叠加现实机制细节以增强可信度;对于授权资产,则需依赖摄影测量、激光扫描或CAD数据。他建议新人聚焦单一方向,打造3–5件高质量作品,并高度重视渲染呈现。此次访谈不仅揭示了AAA级硬表面美术的技术标准,更传递了“热爱+纪律=卓越”的职业信念。

Cinema 4D 2026.1 发布:新增高级分布与 Liquid Flow 发射器
Cinema 4D 2026.1 发布:新增高级分布与 Liquid Flow 发射器

Maxon 发布 Cinema 4D 2026.1,带来了多项针对动态图形艺术家的重要更新。克隆器新增高级分布类型,采用节点系统,使对象排列更加复杂且易于定制;Liquid Flow 发射器简化了液体模拟流程,提升了工作效率。其他改进还包括相机视图捕捉、三维建模中的 Preserve UV 选项、Take 系统下的工作流优化及粒子和火焰模拟增强。新版还增加了 Substance Connector,实现了与 Adobe Substance 3D Sampler 的无缝材质传输。

Unity 6.3 LTS 发布:美术师必知的5大新特性
Unity 6.3 LTS 发布:美术师必知的5大新特性

Unity 6.3 LTS 正式发布,在确保长期稳定性的基础上,为游戏美术师带来五大关键更新:1)Shader Graph 支持无代码创建地形与光照着色器;2)引入 xAtlas 算法,最高节省 27% 光照贴图内存;3)2D URP 可混合渲染 3D 元素,开启 2.5D 创作新范式;4)URP 与 HDRP 共享底层架构,向统一渲染器迈出关键一步;5)VFX Graph 增强注释与实例化支持。此外,UI Toolkit 内置 SVG 支持,新增 Sprite Atlas Analyzer 等性能工具,并扩展 Android XR 的面部与物体追踪能力。免费 Personal 订阅(年收入 < $20 万)现已包含全部核心功能,但价格将于 2026 年 1 月上涨。此次更新显著降低了美术创作的技术门槛,提升了跨平台内容生产的灵活性与效率。

Redshift 2026.2 发布:新增纹理置换与 UV 投影节点
Redshift 2026.2 发布:新增纹理置换与 UV 投影节点

Maxon 发布 Redshift 2026.2(亦称 Redshift 2025.12),为其 GPU 渲染器带来两项核心升级:一是新增 纹理置换(Texture Displacement)方法,无需预细分网格即可在低多边形表面上实时添加细节,提升交互效率;二是引入 UV Context Projection 节点,可同步调整材质中所有纹理的映射参数,大幅简化工作流。此外,新版正式支持 AMD Radeon RX 9000 系列(RDNA 4 架构)GPU,延续其对 AMD、NVIDIA 与 Apple Silicon 的跨平台支持。值得注意的是,Blender 插件已停止更新。Redshift 2026.2 兼容主流 DCC 软件(包括 Cinema 4D 2023+、Houdini 19.0+、Maya 2018+ 等)。

World Creator 2025.3 发布:支持 OctaneRender 导出与 Godot 桥接插件
World Creator 2025.3 发布:支持 OctaneRender 导出与 Godot 桥接插件

BiteTheBytes 发布了 World Creator 2025.3,这是一款基于 GPU 的地形生成软件,主要用于游戏开发、动态图形和 VFX 制作。新版本引入了多项关键功能,包括将地形导出为 ORBX 文件格式以便在 OctaneRender 中渲染,以及新增了 Godot 集成插件。此外,用户现在可以在地形上绘制孔洞以创建洞穴或隧道入口,并将这些入口位置导出为遮罩。其他改进还包括导出地形浮雕图,用于可视化高度变化或创建风格化地形设计。World Creator 支持通过分层工作流创建地形,并能使用多种滤镜模拟侵蚀和沉积效果。它已被广泛应用于 Blizzard Entertainment、Crytek 等知名游戏与 VFX 工作室。World Creator 2025.3 支持 Windows 10 及以上版本,提供了与 Blender、Cinema 4D、Godot、Houdini、Unity 和 Unreal Engine 的集成插件。该版本进一步增强了其在游戏与影视行业的应用价值,提升了地形生成与编辑的灵活性与效率。

十大程序化 3D 生成工具盘点
十大程序化 3D 生成工具盘点

本文系统梳理了当前最具代表性的十大程序化 3D 生成工具。Houdini 凭借其全链路程序化能力稳居行业顶端,尽管学习门槛极高;Blender 通过 Geometry Nodes 实现了免费开源生态下的程序化突破;Substance 3D Designer 主导程序化材质领域;Terragen、World Machine、World Creator 与 Gaea 各具特色,分别在写实地貌、侵蚀模拟、实时编辑与影视级环境生成方面表现突出;Mandelbulb 3D 与 Mandelbulber 专注分形艺术;Rhino + Grasshopper 在建筑参数化设计中不可替代;此外,Unreal Engine 的 PCG 框架、Unity 的 Procedural Toolkit 以及 3ds Max 的 RailClone 等也构成重要补充。文章强调,尽管这些工具普遍学习曲线陡峭,但其在提升效率、实现复杂生成逻辑方面的价值无可替代,代表了 3D 内容创作的重要发展方向。

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